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電化學(xué)作站/腐蝕測(cè)量?jī)x

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

電化學(xué)作站/腐蝕測(cè)量?jī)x 型號(hào):DP-CS150

DP-CS電化學(xué)作站采用浮地式,具有出色的穩(wěn)定性和確度,的硬件和能善的軟件,為涉及能源、材料、生命科學(xué)、環(huán)保等域的科作者提供了的科研平臺(tái)。

產(chǎn)品型號(hào):DP-CS150
更新時(shí)間:2017-11-08
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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電化學(xué)作站/腐蝕測(cè)量?jī)x 型號(hào):DP-CS150
DP-CS電化學(xué)作站采用浮地式,具有出色的穩(wěn)定性和確度,的硬件和能善的軟件,為涉及能源、材料、生命科學(xué)、環(huán)保等域的科作者提供了的科研平臺(tái)。
具體應(yīng)用于:
(1) 電合成、電沉積(電鍍)、陽(yáng)氧化、電解等反應(yīng)機(jī)理研究;
(2)電化學(xué)分析研究;
(3)能源材料(鋰離子電池、太陽(yáng)能電池、燃料動(dòng)力電池和電容器等)、能材料以及傳感器的性能研究;
(4)金屬材料的腐蝕行為研究與耐蝕性評(píng)價(jià);
(5)緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰保護(hù)效率的快速評(píng)價(jià)。
硬件特點(diǎn)
● 雙通道相關(guān)分析器和雙通道速16bit /度24bit AD轉(zhuǎn)換器
● 內(nèi)置FRA頻響分析儀,頻率范圍 10μHz ~1MHz
● 帶寬輸入阻抗的放大器
● 內(nèi)置FPGA DDS信號(hào)合成器
● 率恒電位儀/恒電流儀/零電阻電流計(jì)
● 電壓控制范圍:±10V,槽壓為±21V(可擴(kuò)展至±200V)
● 電流控制范圍:±2.0A(可擴(kuò)展至±5.0A)
● 電位分辨率:10μV,電流分辨率:10pA(可延伸至100fA)
軟件特點(diǎn)

① 數(shù)據(jù)分析
伏安曲線的平滑、積分和微分運(yùn)算,計(jì)算各氧化還原峰的峰、峰面積和峰電位等;
化曲線的三參數(shù)或四參數(shù)動(dòng)力學(xué)解析,計(jì)算Tafel斜率ba,bc,腐蝕電流密度icorr,限擴(kuò)散電流、化電阻Rp和腐蝕速率等,還可由電化學(xué)噪聲譜計(jì)算率譜密度、噪聲電阻Rn和譜噪聲電阻Rsn(f)。
② 實(shí)時(shí)存儲(chǔ)
實(shí)時(shí)存儲(chǔ)測(cè)量數(shù)據(jù),即使因斷電導(dǎo)致測(cè)試中斷,中斷之前的數(shù)據(jù)也會(huì)自動(dòng)保存。
③ 定時(shí)測(cè)量
測(cè)試軟件具有定時(shí)測(cè)量能, 對(duì)于某些需要研究體系隨時(shí)間變化特征時(shí),可提前設(shè)好測(cè)試參數(shù)與間隔時(shí)間,讓儀器在無(wú)人值守下自動(dòng)定時(shí)測(cè)量,提實(shí)驗(yàn)效率。
恒電位控制范圍:±10V  恒電流控制范圍:±2.0A
電位控制度:0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV  電流控制度:0.1%×滿量程讀數(shù)
電位靈敏度:10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz)  電流靈敏度:<10pA
電位上升時(shí)間:﹤1μS(<10mA),<10μS(<2A)  電流量程:2A~200nA, 共8檔
參比電輸入阻抗:1012Ω||20pF  zui大輸出電流:2.0A
槽壓輸出:±21V  電流掃描增量:1mA @1A/mS
CV和LSV掃描速度:0.01mV~10000V/s  電位掃描電位增量:0.076mV @1V/mS
CA和CC脈沖寬度:0.0001~65000s  DPV和NPV脈沖寬度:0.0001~1000s
SWV頻率:0.001~100KHz  CV的zui小電位增量:0.075mV
AD數(shù)據(jù)采集:16bit@1MHz,20bit @1kHz  電流與電位量程:自動(dòng)設(shè)置
DA分辨率:16bit,建立時(shí)間:1μS  低通濾波器 :8段可編程
通訊接口:USB2.0  儀器重量:6.5Kg
外形尺寸(cm):36.5(W)X30.5 (D)X16 (H)

信號(hào)發(fā)生器
頻率響應(yīng):10μHz~115KHz  交流信號(hào)幅值:1mV~2500mV
頻率確度:0.005%  直流偏壓:-10V~+10V
DDS輸出阻抗:50Ω  波形:正弦波,三角波,方波
正弦波失真率:<1%  掃描方式:對(duì)數(shù)/線性,增加/下降
信號(hào)分析器
zui大積分時(shí)間:106個(gè)循環(huán)或者105S  測(cè)量時(shí)間延遲:0~105秒
zui小積分時(shí)間:10mS 或者個(gè)循環(huán)的zui長(zhǎng)時(shí)間  
直流偏置補(bǔ)償
電位補(bǔ)償范圍:-10V~+10V  電流補(bǔ)償范圍:-1A~+1A
帶寬調(diào)整:自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置, 共8級(jí)可調(diào)

能方法  DP-CS120  DP-CS150  DP-CS300  DP-CS310  DP-CS350  DP-CS360
穩(wěn)態(tài)化  開路電位測(cè)量(OCP)  ●  ●  ●  ●  ●  ●
 恒電位化(i-t曲線)  ●  ●  ●  ●  ●  ●
 恒電流化   ●  ●  ●  ●  ●
 動(dòng)電位掃描(TAFEL曲線)  ●  ●  ●  ●  ●  ●
 動(dòng)電流掃描(DGP)   ●  ●  ●  ●  ●
暫態(tài)化  意恒電位階梯波  ●  ●  ●  ●  ●  ●
 意恒電流階梯波   ●  ●  ●  ●  ●
 恒電位階躍(VSTEP)  ●  ●  ●  ●  ●  ●
 恒電流階躍(ISTEP)   ●  ●  ●  ●  ●
 快速電位脈沖       ●
 快速電流脈沖       ●
計(jì)時(shí)分析  計(jì)時(shí)電位法(CP)    ●  ●  ●  ●
 計(jì)時(shí)電流法(CA)    ●  ●  ●  ●
 計(jì)時(shí)電量法(CC)    ●  ●  ●  ●
伏安分析  線性掃描伏安法(LSV)  ●  ●  ●  ●  ●  ●
 線性循環(huán)伏安法(CV)  ●  ●  ●  ●  ●  ●
 階梯循環(huán)伏安法(SCV)    ●   ●  ●
 方波伏安法(SWV)    ●   ●  ●
 差分脈沖伏安法(DPV)    ●   ●  ●
 常規(guī)脈沖伏安法(NPV)    ●   ●  ●
 常規(guī)差分脈沖伏安法(DNPV)    ●   ●  ●
 交流伏安法(ACV)    ●   ●  ●
 二次諧波交流伏安(SHACV)    ●   ●  ●
溶出伏安  恒電位溶出伏安    ●   ●  ●
 線性溶出伏安    ●   ●  ●
 階梯溶出伏安    ●   ●  ●
 方波溶出伏安    ●   ●  ●
交流阻抗  電化學(xué)阻抗(EIS)~頻率掃描     ●  ●  ●
 電化學(xué)阻抗(EIS)~時(shí)間掃描     ●  ●  ●
 電化學(xué)阻抗(EIS)~電位掃描(Mott-Schottky曲線)     ●  ●  ●
腐蝕測(cè)量  循環(huán)化曲線(CPP)  ●  ●  ●  ●  ●  ●
 線性化曲線(LPR)  ●  ●  ●  ●  ●  ●
 電化學(xué)噪聲(EN)  ●  ●  ●  ●  ●  ●
 電偶腐蝕測(cè)量(ZRA)  ●  ●  ●  ●  ●  ●
 氫擴(kuò)散測(cè)試(HDT)*  ●  ●  ●  ●  ●  ●
電池測(cè)量  電池充放電測(cè)試   ●  ●  ●  ●  ●
 恒電流充放電   ●  ●  ●  ●  ●
光電測(cè)量  電致調(diào)光測(cè)量 *      ●  ●
 光譜儀測(cè)量 *      ●  ●
擴(kuò)展測(cè)量  盤環(huán)電測(cè)試 *    ●  ●  ●  ●
 數(shù)字記錄儀  ●  ●  ●  ●  ●  ●
 波形發(fā)生器    ●  ●  ●  ●
 圓盤電機(jī)控制    ●  ●  ●  ●
注: * 氫擴(kuò)散及旋轉(zhuǎn)盤環(huán)電測(cè)試需配置DP-CS1001A恒流源或采用DP-CS2350雙恒電位儀。
* 光電測(cè)量能用戶選配。
* 產(chǎn)品3年質(zhì)保。
儀器配置:
1)儀器主機(jī)1臺(tái)
2)測(cè)試與分析軟件1套
3)電解池(含鹽橋和排氣管)1套
4)輔助、參比、作電各1支
5)模擬電解池1個(gè)
6)電源線/USB數(shù)據(jù)線各1條
7)電電纜線1條
8)電架(選配 *)
9)屏蔽箱(選配 *)
10)電腦(選配 *)

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